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光催化氧化除臭設備的處理機理
光催化氧化除臭設備機制主要包括兩方面:一是高壓放電等離子體的過程,高能量產生的高頻放電,釋放一些有害的氣體分子化學能,使其成為無害的元素原子或分子;二、由于高壓放電等離子體,其中包含大量的高能電子,積極的和消極的離子、激發態粒子和有很強的氧化自由基,粒子和氣體分子碰撞我的活動部分,在電場的作用下,激發態的氣味分子。當氣味分子獲得的能量超過其分子鍵的結合能時,臭味分子的化學鍵就會分解并直接分解成單個或無害的單個原子分子。同時,大量的活性自由基,如OH,HO2,·O和O3,被高度氧化,與有害氣體分子發生化學反應,產生無害的產物。